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中科院寧波材料所開發(fā)出石墨烯/碳化硅納米線復(fù)合熱界面材料

2019-06-27  瀏覽量:1353

 

(文章來源:烯碳資訊)

 

石墨烯作為一種目前世界上研究最廣范的二維材料之一,在面內(nèi)方向具有極高的熱導(dǎo)率(3,500 – 5,300W/mK),那么,有無可能利用石墨烯優(yōu)異的導(dǎo)熱性能來對電子元器件進(jìn)行有效的熱管理呢?

 

近日,中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所功能碳素材料團(tuán)隊與合作者制備了一種基于石墨烯紙的高性能熱界面材料。近年來,隨著電子器件朝著輕、薄、短、小方向發(fā)展,但其各種組件(如CPU、GPU等)的功率卻越來越大,其工作溫度也相對之前大幅度提高,但是高溫會對電子組件的穩(wěn)定性、可靠性和壽命產(chǎn)生有害影響。過高的溫度會危及電路連接點,增加阻值,并造成熱應(yīng)力損傷,熱失效導(dǎo)致的電子器件故障占總故障的55%。統(tǒng)計顯示電子元件工作溫度每提升10 – 15 °C,使用壽命將降低一半。因此,確保電子元器件所產(chǎn)生的熱量能夠及時移除,己經(jīng)成為電子產(chǎn)品系統(tǒng)設(shè)計與組裝的一個重要考慮因素,特別對于集成程度和組裝密度都較高的便攜式電子產(chǎn)品(如筆記本電腦和手機(jī)等),散熱甚至成為了整個產(chǎn)品的主要技術(shù)瓶頸。

 

在熱源與熱沉之間由于存在微米尺度的粗糙度,其中充滿了空氣(0.03 W/mK),即使施加了很大的封裝壓力,也無法實現(xiàn)熱源與熱沉之間的無縫接觸,在一般封裝條件下,熱源與熱沉的實際接觸面積只有接合面積的10%,嚴(yán)重阻礙了熱傳導(dǎo),使界面熱阻抗增加,最終造成散熱效能低下。目前主要是用一種柔軟易形變的材料填充于熱源與熱沉界面間,充當(dāng)熱傳遞的橋梁,稱之為熱界面材料(Thermal Interface Material,TIM),見圖1。導(dǎo)熱墊是一種具有一定導(dǎo)熱性能的彈性的固態(tài)材料,具有選材多樣性,適用范圍廣,易于清理,現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于電子產(chǎn)品的散熱管理應(yīng)用。目前商用導(dǎo)熱墊主要是使用高導(dǎo)熱陶瓷填料(如氧化鋁、氮化鋁、氮化硼等)與硅膠基底混合而成,其導(dǎo)熱系數(shù)普遍小于7 W/mK,越來越難以適應(yīng)日益增長的散熱需求。

 

熱界面材料的運用原理

 

中科院寧波材料所團(tuán)隊研發(fā)的石墨烯/碳化硅納米線復(fù)合熱界面材料(GHP)很好的解決了熱界面材料需要兼顧面外高熱導(dǎo)率與良好壓縮性能的瓶頸問題,制備流程見圖2a。目前,具有面內(nèi)高熱導(dǎo)率的石墨烯紙(勻熱膜),已被應(yīng)用于各種電子設(shè)備的熱管理用途。然而,由于石墨烯紙的面外導(dǎo)熱系數(shù)較低(< 6 W/mK),限制其作為熱界面材料的使用。

 

 

在該研究中,通過在石墨烯層間預(yù)先嵌入氧化硅納米粒子,在進(jìn)行碳熱還原反應(yīng),使石墨烯片層間原位生長出導(dǎo)熱性能較好的碳化硅納米線,其斷面結(jié)構(gòu)如圖2b所示。由于石墨烯/碳化硅納米線的界面為碳–硅共價鍵,在75 psi的封裝壓力下(如圖2c)所示,GHP的面外熱導(dǎo)率(17.6 W/mK)相對于石墨烯紙?zhí)岣吡巳吨?,也高于常用的商用熱界面材料,包括?dǎo)熱硅膠墊、導(dǎo)熱硅脂以及導(dǎo)熱凝膠等(圖2d)。

 

 

在實際的熱界面性能評測實驗中,以GHP為熱界面材料的系統(tǒng)溫降達(dá)到了18.3 °C,是商用熱界面材料溫降(8.9 °C)的兩倍多,如圖3a–c所示。通過仿真軟件對散熱過程的模擬(圖3d–e),結(jié)果顯示:GHP不僅有著較高的面外熱導(dǎo)率,其接觸熱阻也低于主流商用導(dǎo)熱墊。另外,相對于硅膠基熱界面材料,GHP是由無機(jī)的石墨烯與碳化硅組成,因此擁有更好的熱穩(wěn)定性及工作溫度適應(yīng)性。

 

 

 

圖3. (a)TIM材料性能評估系統(tǒng)原理圖 3;(b)30W功率下加熱器溫度變化圖;(c)不同功率下加熱200s后加熱器溫度圖;(d)(e)基于模擬計算的熱界面材料有效熱導(dǎo)率與散熱能力比較。

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