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心態(tài)炸裂!插件焊接前發(fā)現(xiàn)PCB焊盤(pán)出現(xiàn)“發(fā)黑”異常

2023-11-17  瀏覽量:713

 

心態(tài)炸裂!插件焊接前發(fā)現(xiàn)PCB焊盤(pán)出現(xiàn)“發(fā)黑”異常

 

引言

 

某PCB貼片回流焊接兩天后插件焊接前發(fā)現(xiàn)PCB焊盤(pán)出現(xiàn)“發(fā)黑”異常。對(duì)PCB進(jìn)行測(cè)試分析,查找焊盤(pán)“發(fā)黑”的失效原因。

 

測(cè)試分析

 

1 失效確認(rèn)

 

對(duì)NG PCB進(jìn)行外觀檢查,確認(rèn)失效現(xiàn)象,并與未過(guò)爐光板進(jìn)行對(duì)比,發(fā)現(xiàn)NG焊盤(pán)顏色明顯偏暗,即焊盤(pán)“發(fā)黑”,且表面較為粗糙,呈塊狀形貌;而未過(guò)爐PCB焊盤(pán)表面呈棕黃色,表面較為平整,無(wú)明顯異常特征。

 

2 焊盤(pán)表面分析

 

對(duì)NG焊盤(pán)和未過(guò)爐光板進(jìn)行表面分析,發(fā)現(xiàn)NG PCB表面存在兩種類(lèi)型形貌:①明顯的膜狀覆蓋物,Cl含量較高,約為11.4wt%;②呈腐蝕結(jié)晶形貌,Cl含量同樣較高,約為14.7wt%,如圖1,表1所示;而未過(guò)爐焊盤(pán)表面較為平整,未發(fā)現(xiàn)明顯腐蝕形貌;焊盤(pán)表面主要成分為C、O、Cl、Cu,Cl含量為1.1wt.%~5.6wt.%,如圖2,表2所示。

 

NG焊盤(pán)表面SEM圖片及EDS譜圖

圖1 NG焊盤(pán)表面SEM圖片及EDS譜圖

 

表1 NG焊盤(pán)表面EDS結(jié)果(Wt.%)

NG焊盤(pán)表面EDS結(jié)果

 

未過(guò)爐焊盤(pán)表面SEM圖片

圖2 未過(guò)爐焊盤(pán)表面SEM圖片

 

表2 未過(guò)爐PCB焊盤(pán)表面EDS結(jié)果(Wt.%)

未過(guò)爐PCB焊盤(pán)表面EDS結(jié)果

 

3 焊盤(pán)剖面分析

 

對(duì)NG PCB、未過(guò)爐光板焊盤(pán)進(jìn)行剖面分析。如圖3,表3所示,NG PCB A區(qū)焊盤(pán)表面OSP膜呈結(jié)晶狀,厚度為3.68~4.29μm;NG PCB B區(qū)焊盤(pán)OSP膜呈霧狀,厚度為1.44~2.58μm;各區(qū)域OSP膜主要成分都為C、O、Cl、Cu,且Cl、Cu含量較高,分別為6.8 wt.%~16.8wt.%、41.7wt.%~73.3wt.%。

 

NG PCB焊盤(pán)剖面SEM圖片

圖3 NG PCB焊盤(pán)剖面SEM圖片

 

表3 NG PCB焊盤(pán)剖面EDS結(jié)果(Wt.%)

NG PCB焊盤(pán)剖面EDS結(jié)果

 

如圖4,表4所示,未過(guò)爐焊盤(pán)OSP膜襯度均勻,無(wú)明顯雜質(zhì),厚度約為0.68~1.26μm。OSP膜主要成分為C、O、Cl、Cu,其中Cu含量為7.9wt.%,Cl含量為3.9 wt.%。

由以上測(cè)試結(jié)果可見(jiàn),NG PCB OSP膜呈明顯的腐蝕形貌,主要與底銅腐蝕相關(guān);OK PCB OSP膜與NG PCB存在巨大差異。兩者差異主要體現(xiàn)在底銅腐蝕。

 

未過(guò)爐PCB焊盤(pán)剖面SEM圖片

圖4 未過(guò)爐PCB焊盤(pán)剖面SEM圖片

 

表4 未過(guò)爐PCB焊盤(pán)剖面EDS結(jié)果(Wt.%)

未過(guò)爐PCB焊盤(pán)剖面EDS結(jié)果

 

4 FT-IR分析

 

對(duì)失效PCB的焊盤(pán)表面進(jìn)行紅外分析,發(fā)現(xiàn)NG焊盤(pán)表面主成分為酰胺化合物,而OSP膜成膜物質(zhì)主要成分為含氯苯并咪唑衍生物。

 

FTIR紅外光譜譜圖

圖5 FTIR紅外光譜譜圖

 

表5 FT-IR測(cè)試結(jié)果

FT-IR測(cè)試結(jié)果

 

5 TOF-SIMS極表面成分分析

 

利用TOF-SIMS對(duì)NG PCB、未過(guò)爐PCB焊盤(pán)表面進(jìn)行成分分析,通過(guò)對(duì)比發(fā)現(xiàn),NG焊盤(pán)極表面存在大量的Na、K異常元素,說(shuō)明NG焊盤(pán)表面存在污染。結(jié)合EDS測(cè)試結(jié)果分析,Na、K異常元素僅存在焊盤(pán)極表面,與底銅的腐蝕無(wú)直接相關(guān)性。

 

表6 TOF-SIMS測(cè)試結(jié)果

TOF-SIMS測(cè)試結(jié)果

 

6 XPS深度成分分析

 

利用XPS對(duì)NG PCB焊盤(pán)表面縱向方向成分進(jìn)行分析(分別分析圖1中薄膜覆蓋區(qū)和明顯結(jié)晶區(qū)),并與未過(guò)爐PCB進(jìn)行對(duì)比,結(jié)果如下:

①距離焊盤(pán)表面50nm深度時(shí),NG PCB、未過(guò)爐PCB成分無(wú)本質(zhì)差異。NG PCB Cu、Cl元素含量相對(duì)較高,Cu、Cl元素主要以離子態(tài)存在;未過(guò)爐PCB Cl元素主要以共價(jià)鍵為主,這與表面腐蝕結(jié)晶形貌相一致。

②距離焊盤(pán)表面250nm深度,NG PCB不同區(qū)域變化略有不同,Cu、Cl元素仍然主要以離子態(tài)存在。

 

表7 XPS測(cè)試結(jié)果(At%)

XPS測(cè)試結(jié)果

 

結(jié)論

 

OSP焊盤(pán)組裝過(guò)程中焊盤(pán)“發(fā)黑”是由于底銅腐蝕結(jié)晶所致,主要與Cl元素含量較高、流轉(zhuǎn)存儲(chǔ)過(guò)程無(wú)管控兩方面直接相關(guān)。

 

*** 以上內(nèi)容均為原創(chuàng),如需轉(zhuǎn)載,請(qǐng)注明出處 ***

 

簡(jiǎn)介

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