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俄歇電子能譜儀(AES)分析方法介紹

2014-12-08  瀏覽量:6344

1.俄歇電子能譜儀(AES)

俄歇電子能譜儀(Auger Electron Spectroscopy,AES),作為一種最廣泛使用的表面分析方法而顯露頭角,通過檢測俄歇電子信號進行分析樣品表面,是一種極表面(0-3nm)分析設備。這種方法的優(yōu)點是:在靠近表面5-20埃范圍內化學分析的靈敏度高,很高的空間分辨率,最小可達到6nm;能探測周期表上He以后的所有元素及元素分布;通過成分變化測量超薄膜厚。它可以用于許多領域,如半導體技術、冶金、催化、礦物加工和晶體生長等方面。

 

俄歇電子能譜分析
 
2.俄歇電子能譜儀(AES)工作原理
(1)原子內某一內層電子被激發(fā)電離從而形成空位,
(2)一個較高能級的電子躍遷到該空位上,
(3)再接著另一個電子被激發(fā)發(fā)射,形成無輻射躍遷過程,這一過程被稱為Auger效應,
被發(fā)射的電子稱為Auger電子。
(4)俄歇電子能譜儀通過分析Auger電子的能量和數(shù)量,信號轉化為元素種類和元素含量。
俄歇電子能譜分析
3.俄歇電子能譜儀(AES)可獲取的參數(shù)
(1)定性分析:定性除H和He以外的所有元素及化合態(tài)。
(2)元素分布:元素表面分布和深度分布,能獲極小區(qū)域(表面最小6nm,深度最小0.5nm)的元素分布圖。
(3)半定量分析:定量除H和He以外的所有元素,濃度極限為10-3。
(4)超薄膜厚:通過成分變化能測量最薄0.5nm薄膜的膜厚。
 
4.案例分析
案例背景:樣品為客戶端送檢LED碎片,客戶端反映LED碎片上Pad表面存在污染物,要求分析污染物的類型。
   失效樣品確認:將LED碎片放在金相顯微鏡下觀察,尋找被污染的Pad,通過觀察,發(fā)現(xiàn)Pad表面較多小黑點,黑點直徑3μm左右,考慮分析區(qū)域大小后選擇分析區(qū)域最小的AES進行分析,能準確分析污染物位置。
俄歇電子能譜分析
 
  俄歇電子能譜儀( AES)分析:對被污染的Pad表面進行分析,結果如下圖,位置1為污染位置,位置2為未污染位置。
俄歇電子能譜分析
 
結論:通過未污染位置和污染位置對比分析可知,發(fā)現(xiàn)污染位置主要為含K(20.6%)和S(13.6%)類物質,在未污染位置S含量為3.7%未發(fā)現(xiàn)K元素,推斷污染位置存在K離子污染,并與S共同作用形成黑色污染物。
 
6.分析方法參考標準
     GB/T 26533-2011俄歇電子能譜分析方法通則
 
作者簡介:
MTT(美信檢測)是一家從事材料及零部件品質檢驗、鑒定、認證及失效分析服務的第三方實驗室,網址:www.baoxiande.cn,聯(lián)系電話:400-850-4050。
 
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